Компания Samsung Electronics, мировой лидер в области передовых полупроводниковых технологий, объявила о запуске серийного производства на новой линии по выпуску полупроводников (EUV) в Хвасоне (Hwaseong), Корея.
Производственная линия V1 является первой линией Samsung, специализирующейся исключительно на выпуске полупроводников с применением технологии EUV (литографии в глубоком ультрафиолете, extreme ultraviolet), и производит чипы с использованием функциональных узлов, выполненных по 7-нанометровому и еще более тонким техпроцессам. Линия V1 была основана в феврале 2018 года, а тестовое производство подложек было запущено во второй половине 2019 года. Первые партии продукции, выпущенные на этой линии, поступят заказчикам в первом квартале 2020 года.
«Наряду с технологическим лидерством и развитием проектной инфраструктуры одним из важнейших элементов полупроводникового бизнеса является совершенствование производства, – говорит д-р Юнг (ES Jung), президент и глава полупроводникового производства в Samsung Electronics. – Сегодня, когда мы наращиваем производство, запуск линии V1 поможет нам лучше реагировать на рыночный спрос и расширит возможности компании для поддержки наших клиентов».
Линия V1 в настоящее время производит современные мобильные чипы по 7-нм и 6-нм техпроцессу, при этом компания намерена продолжать работу по уменьшению техпроцесса вплоть до 3 нм.
К концу 2020 года совокупный объем инвестиций в линию V1 в соответствии с планом Samsung достигнет 6 млрд долларов США, а общий объем производства продукции, выполненной по 7-нм техпроцессу и ниже, увеличится в три раза от уровня 2019 года. Компания рассчитывает, что вместе с линией S3, линия V1 будет играть ключевую роль в способности компании реагировать на быстрорастущий глобальный спрос на полупроводниковую продукцию, выполненную с использованием технологических процессов ниже 10 нм.
По мере дальнейшего уменьшения габаритов полупроводниковых устройств внедрение технологии литографии в глубоком ультрафиолете обретает все более важное значение для отрасли, поскольку эта технология позволяет продолжить дальнейшую миниатюризацию сложных схем на подложке и предложить оптимальные решения для новых применений, таких как сети 5-го поколения, искусственный интеллект и автомобильная электроника.
С учетом введенной в эксплуатацию линии V1 сегодня Samsung имеет в общей сложности шесть полупроводниковых производств в Южной Корее и в США, в том числе пять линий с использованием 12-дюймовых подложек и одну линию с использованием 8-дюймовых подложек (см. ниже).
* Глобальные полупроводниковые производства Samsung
| Название линии | 6-Line | S1-Line | S2-Line | S3-Line | S4-Line | V1-Line |
| Техпроцесс | 180~65 нм | 65~8 нм | 65~11 нм | 10 нм ~ | 65 нм ~ | 7 нм~ |
| Площадка | Гиюнг, Корея | Остин, США | Хвасон, Корея | |||
| Размер подложки | 8 дюймов | 12 дюймов | ||||